上海物光 顆粒圖像分析儀WKL-702

工作原理：

   WKL-702顆粒圖像分析儀(yi) 將傳(chuan) 統的顯微測量方法與(yu) 現代的圖像技術相結合，是一種采用圖像法進行顆粒形貌分析和粒度測量的顆粒分析係統，由光學顯微鏡、數字CCD攝像機和顆粒圖像處理分析軟件組成。該係統通過專(zhuan) 用的數字攝像機將顯微鏡的顆粒圖像拍攝下來傳(chuan) 輸給電腦，通過專(zhuan) 用的顆粒圖像處理分析軟件對圖像進行處理分析，具有直觀、形象、準確和測試範圍寬等特點。可以觀察顆粒形貌，也可得到粒度分布等分析結果。

技術參數

測量範圍：1～3000微米

最大光學放大倍數：1600倍

最大分辨率：0.1微米/像素

準確性誤差：< ±3%(國家標準物質)

重複性偏差：< ±3%(國家標準物質)

數據輸出：周長分布、麵積分布、長徑分布、短徑分布、周長相當徑分布、麵積相當徑分布、Feret徑分布、長短徑比、中間（D50）、有效粒徑（D10）、限定粒徑（D60、D30、D97）、個(ge) 數長度平均徑、個(ge) 數麵積平均徑、個(ge) 數體(ti) 積平均徑、長度麵積平均徑、長度體(ti) 積平均徑、麵積體(ti) 積平均徑、不均勻係數、曲率係數。

配置參數（配置1國產(chan) 顯微鏡）（配置2進口顯微鏡）

三目生物顯微鏡:平場目鏡：10×、16×

               消色差物鏡：4×、10×、40×、100× （油）

               總放大倍數：40×-1600×

攝像機：300萬(wan) 像素數字CCD（標準C接口鏡頭）

應用範圍

適用於(yu) 磨料、塗料、非金屬礦、化學試劑、粉塵、填料等各種粉末顆粒的粒度測量、形貌觀察和分析。

軟件功能及報告輸出格式

1、可以對圖像進行多項處理:如:影像增強、圖像疊加、局部提取、定向放大、對比度、亮度調節等幾十種功能。

2、具有圓度、曲線、周長、麵積、直徑等幾十種幾何參數的基本測量。

3、可直接按顆粒粒徑的粒徑麵積、形狀等多類參數，以線性或非線性統計方式繪出分布圖