上海物光 光電輪廓儀WGL

特點：本儀(yi) 器采用非接觸、光學相移幹涉測量方法，測量時不損傷(shang) 工件表麵，能快速測得各種工件表麵微觀形貌的立體(ti) 圖形，並分析計算出測量結果。適用於(yu) 測量各種量塊、光學零件表麵的粗糙度；標尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結構鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表麵結構測量；矽片表麵粗糙度及其上圖形結構測量等等。
由於(yu) 儀(yi) 器測量精度高，具有非接觸和三維測量的特點，並采用計算機控製和快速分析、計算測量結果，本儀(yi) 器適用於(yu) 各級測試、計量研究單位工礦企業(ye) 計量室，精密加工車間，也適用於(yu) 高等院校和科學研究單位等。
主要技術參數
表麵微觀不平深度測量範圍
在連續表麵上，相鄰二象素之間沒有大於(yu) 1 / 4 波長的高度突變時：1000 一1nm 
相鄰二象素之間含有大於(yu) 1 / 4 波長的高度突變時：130 一1nm 
測量的重複性：δRa ≤0.5nm 
物鏡倍率:40X 
數值孔徑:Φ 65  
工作距離:0.5mm 
儀(yi) 器視場  目視: Φ0.25mm
攝象: 0.13×0.13mm
儀(yi) 器放大倍數 目視: 500× 
攝象（計算機屏幕觀察）一2500×
接收器測量列陣:1000X1000 
象素尺寸:5.2×5.2µm 
測量時間采樣（掃描）時間:1S
儀(yi) 器標準鏡     反射率（高）: ～50 % 
反射率（低）: ～4 %
照明光源:白熾燈6V 5W
綠色幹涉濾光片波長:λ≒530nm   
半寬度λ≒10nm   
主顯微鏡升程:110 mm 
工作台升程:5 mm 
X 、丫方向移動範圍: ～10 mm 
工作台旋轉運動範圍:360° 
工作台頃斜範圍：±6° 
計算機係統：P4 , 2 .8G 以上，內(nei) 存1G以上17寸純平顯示器